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產品介紹
EKSMA多軸傾斜平臺850-0010是一款精細光學調整設備，具備多軸傾斜與旋轉調整功能，適用于光學組件的準確對齊與校準。
多軸傾斜平臺提供兩個軸的角度調節-傾斜和平面內旋轉。安裝平臺圍繞運動樞軸點旋轉兩微米。
EKSMA多軸傾斜平臺850-0010憑借其高精度、穩定性和靈活性，成為光學實驗與工業應用中校準光學組件的理想選擇。
性能特點
多軸傾斜平臺850-0010提供關于兩個軸的角度調節——傾斜和平面內旋轉。
安裝平臺圍繞運動樞軸點旋轉兩微米。
平面外傾斜范圍為±2°，平面內旋轉范圍為±2.5°。
兩個千分尺螺釘并排放置，便于使用。
調整動作未經校準，且已解除耦合。
安裝平臺具有螺紋孔M6和M4的25mm網格。
850-0009型是對850-0010的狹義定制改裝。
在裝置的底座上提供了兩個間隙孔，直徑為2 mm。這允許將850-0010連接到桌子和面包板上。也可以用表夾820-0240夾緊裝置的底座；這樣你就可以把這個單元放在桌子上的任何方向上。
傾斜平臺由黑色陽極氧化鋁制成。
技術參數
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產地 |
立陶宛 |
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傾斜θy |
±2° |
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旋轉θz |
±2.5° |
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負載能力 |
15公斤 |
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間隙孔直徑 |
6.2 mm |
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顏色 |
黑色 |
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材質 |
陽極氧化鋁 |
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孔口 |
螺紋 |
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孔口尺寸 |
M6和M4 |
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網格尺寸 |
25mm |
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旋轉 |
傾斜和平面 |
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重量 |
1千克 |
產品尺寸
產品應用
光學實驗
用于激光器、光學檢測設備（如輪廓儀、光電探測器）的校準，確保光路準確對齊。
搭配平移臺（如423、433型號）使用時，可擴展為六自由度定位系統，滿足復雜光路調整需求。
工業生產
在激光加工（如切割、焊接、打標）中，用于調整工件或光束角度，提升加工精度。
適用于材料分析設備（如X射線、太赫茲產品）的光學組件校準，確保檢測數據準確性。
科研與開發
量子光學、太赫茲技術等領域中，用于精細光學系統的搭建與調試，支持前沿技術研究。
津公網安備12010102000950號